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發(fā)布時(shí)間:2023-03-13點(diǎn)擊量:
當(dāng)曝光不足時(shí),由于單體聚合不徹底,在顯影過(guò)程中,膠膜溶漲變軟,線條不清晰,色澤暗淡,甚至脫膠,在蝕刻過(guò)程中膜起翹,滲鍍,甚至脫落;當(dāng)曝光過(guò)度時(shí),會(huì)造成難于顯影,膠膜發(fā)脆,留下殘膠等弊病。曝光將產(chǎn)生圖像線寬的偏差,過(guò)量的曝光會(huì)使圖形線條變細(xì),使產(chǎn)品的線條變粗。根據(jù)顯影后干膜的光亮程度,圖像是否清晰,圖像線寬是否與原底片相符等來(lái)確定適當(dāng)?shù)钠毓鈺r(shí)間。此工序?yàn)槲g刻加工的重要工序,曝光能量的大小會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的材料的厚度,精密精細(xì)度來(lái)考慮。這也是一個(gè)蝕刻加工企業(yè)的技術(shù)能力的體現(xiàn)。曝光工序決定了蝕刻能否保證有較好的尺寸管控精度等要求。
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